一种红外增透膜及其制备方法，属于薄膜技术领域。以3～12μm为中心波长λ0，在ZnSe基体(1)上顺次制备高折射率(2)和低折射率(3)的λ0/4～λ0/4双层增透膜系。高折射率薄膜(2)的折射率为3.0～4.0，光学厚度为1～3μm，低折射率薄膜(3)的折射率为2.1～2.6，光学厚度为0.75～3μm。制备方法是采用中频和直流的双靶磁控溅射法，以Ge和C为靶源，CH4和Ar的混合气体作为辅助放电气体，在ZnSe基体单面或双面上沉积GexC1-x增透膜。通过控制Ge和C靶的溅射电流大小比例，以及控制CH4/Ar的分压比，制备出折射率不同的两层GexC1-x薄膜，通过控制时间等参数使每层薄膜的厚度达到λ0/4。本发明方法参数牵制性小、控制简单、增透效果优良。