一种磁吸附微球薄膜制备装置，包括电机、系杆、固定盘、磁体和筛网。一种制备微球碳化硼薄膜的方法，使用安装有上述磁吸附微球薄膜制备装置的电子束蒸发设备，步骤为：(1)将碳化硼膜料放到电子束蒸发设备的坩埚中，将铁磁性微球形衬底吸附在筛网之下并与筛网接触，使铁磁性微球形衬底位于坩埚正上方20～30cm处；(2)在真空条件进行镀膜，衬底温度为室温～300℃；(3)筛网的转动频率为0.001～0.01Hz，镀膜时束流值控制在80～100mA，镀膜时间以膜层厚度达到要求为限。一种碳化硼空心靶丸的制备方法，将以铁磁性微球为衬底的微球碳化硼薄膜在常压、900～1000℃退火处理后，在其表面开孔露出铁芯衬底，然后放入稀硫酸水溶液中腐蚀至少24小时。