薄膜的多元化，可通过多元素的搭配组合，充分发挥各个元素的特性和作用，提高涂层刀具的多重物理、化学性能，是获得高性能薄膜的重要途径。

物理气相沉积技术（PVD）是刀具表面涂层的重要方法之一。阴极电弧离子镀（AIP）和磁控溅射离子镀（MS）是PVD中的两大主流技术，阴极电弧离子镀具有沉积效率高、涂层结合力好等优点；磁控溅射离子镀溅射容易实现对所蒸发的微量元素含量的控制，适合多元纳米薄膜的制备。复合离子镀技术是将两种及两种以上的涂层方法结合在一起，在工件表面上实现同时沉积。AIP与MS（简称AMS技术）的结合有益于实现多元纳米复合涂层和多元纳米多层涂层的制备，大幅提高薄膜的综合性能，因此AMS技术已成为刀具涂层技术发展的一个非常关键、重要方向。

我们成功研发出AMS设备，并针对TiAl、CrAl基涂层，开发了相应的工艺技术。

该设备电弧技术（与HAUZER、BEL类似）是国内一流的技术，在多个客户处，不论是工具涂层的应用还是模具涂层的应用，都可以与国外涂层设备有效竞争。

该设备上配置了智能源挡板技术、并采用了多列阴极电弧源的布置方式。智能源挡板可以通过按钮或者自动程序设定，方便地在被镀工件******转圈移动，并准确停止到要求的靶源前面。该源挡板不是用于遮挡靶源不被污染，而是在任何一组靶源开始放电蒸发前，先进行靶面（表面）的放电预清洗，以避免其上的污染物质镀到工件上。该源挡板能够承受任何一组靶源放电时产生的强烈离子轰击和加热效应；长期运行稳定可靠，不卡死；不影响源挡板的正常移动和走位。特别为实现多层复合膜和纳米膜涂覆应用提供了关键性的硬件条件。

设备完全按照欧洲CE规范设计和制造，全自动控制系统，可实现真正意义上的“一键式”操作，包括：抽真空，智能加热、氩离子轰击清洗、电弧轰击清洗、离子源轰击清洗、镀膜、冷却、冷却水自动切换、氮气冷却等功能。只有真正意义的全自动才能保证镀膜的稳定性和重复性。

对全部设定和实际镀膜过程参数实时自动记录IPC硬盘，形成数据库，保存过去一年来的所有数据资料。操作人员可以在时序曲线上方便查找全部镀膜过程状态细节。为工艺开发工程工作，以及镀膜生产品质管理工作提供关键性的支持和帮助。

设备具有在线监测和报警功能，大大减轻了对设备维护工程师和设备操作人员的技术能力要求。可提供网络连接远程监测、诊断和技术支持服务，能够快速高效、成本低为客户解决问题。

所有设备提供设备年度全面维护保养技术服务；提供及时完整的备件库支持和服务；提供整套的交钥匙工程，包括涂层前处理，涂层工艺开发，涂层后处理等。

薄膜断口形貌：